华体会app官方下载:鑫来材料努力与制造商合作生产可用于7nm以下干法刻蚀工艺的光刻机

2021-04-02 06:20:17 浏览: 205次 来源:【jake】 作者:-=Jake=-

亚非网4月2日,据了解,新来英才是国内唯一涵盖真空半导体,生物医学和食品安全三个领域的高清洁应用材料制造商。

最近,高清洁应用材料的生产商Xinlai Yingcai表示凤凰体育App ,根据结构图,我们有机会在光刻机领域中使用我们的真空系统产品。我们也一直在努力与ASML联系,我们也希望能够与其他国内制造商合作,通过真空技术生产科研级的光刻机,并将其逐步推向半导体市场。我们对国产7nm以下工艺是否可以替代尚不十分了解,但我们的产品可用于7nm以下干法刻蚀工艺。

关于订单华体会app官方下载 ,新来英才表示,该公司手头有足够的订单,由于这种流行病,恢复工作已经推迟,影响了出货量。目前澳洲幸运10app ,工作和生产已完全恢复,并已尽力减少该流行病的影响,并且他们有信心在全年内取得良好的销售。目前,海外疫情比较严重的地区暂时还不是公司的主要出口地区,疫情影响有限。

2019年上半年,新来材料积极在创业板市场上发行可转换公司债券新莱应材,以加快公司半导体行业超高清洁管阀生产线的技术改造项目。新来英才表示新莱应材,一方面募集资金投资项目的完成,将有助于增加产品的附加值澳洲幸运8 ,提高公司的盈利能力;另一方面,它将有助于提高公司的品牌价值亚洲体育平台 ,建立品牌优势并增强公司的半导体行业的市场份额和高清洁产品的市场认可度。

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